紫外線清潔技術的應用主要用於液晶顯示設備，半導體矽片，集成電路，高精度印刷電路板，光學設備，石英晶體，密封技術以及帶有氧化膜的金屬材料的生產過程中。 適當。

主要材料：ITO玻璃，光學玻璃，鉻板，掩模板，拋光的石英晶體，矽片和帶有氧化膜的金屬等，用於精密清潔。

可以去除汙垢：有機汙垢，人體皮脂，化妝品油，樹脂添加劑，聚酰亞胺，石蠟，鬆香，潤滑油，殘留的光致抗蝕劑等。

此UV光源具有UV改性的特性 （LCD的表麵質量變化）。 目前，在LCD STN的生產過程中，它主要用於薄膜加工技術中。 薄膜之間的粘合非常有效，例如ITO薄膜和光敏薄膜層，TOP塗層和PI塗層等。此外，它還可以用於UV改性塑料材料產品的研究部門進行納米技術研究。 紫外線照射後，產品會發生化學反應，從而改變產品的表麵性能。 在STN-LCD，彩色濾光片和OLED的生產過程中，某些過程設備相當相似，不同之處在於不同的製造過程要求。 隨著電路的細化和產品的色彩比例的提高，LCD行業對製造工藝的要求也在不斷提高，並且對“想做得好，必須先提高其工具的工人”的需求不斷提高，因此隻有設備能力不斷提高 改善。 為了提高生產質量和效率。

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